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Analysis of the electrical breakdown in hydrogenated amorphous silicon thin-film transistors

机译:氢化非晶硅薄膜晶体管中的电击穿分析

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摘要

Electrical breakdown induced by systematic electrostatic discharge (ESD) stress of thin-film transistors used as switches in active matrix addressed liquid crystal displays has been studied using electrical measurements, electrical simulations, electrothermal simulations, and postbreakdown observations. Breakdown due to very short pulses (up to 1
机译:已经使用电学测量,电学模拟,电热模拟和击穿后观察研究了用作有源矩阵寻址液晶显示器中开关的薄膜晶体管的系统静电放电(ESD)应力引起的电击穿。由于非常短的脉冲(最多1个)而击穿

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